原子力显微镜MS900

力显微镜（AFM）凭借其纳米级分辨率和多物理场分析能力，在多个领域具有广泛应用，如：材料科学、纳米材料表征、薄膜与涂层研究：测量膜层厚度、表面粗糙度及界面结合状态（如半导体外延层）、高分子材料分析、力学性能测试、生物医学、半导体与电子器件、表面缺陷检测、纳米加工与操纵。

原子力显微镜通过接触式、轻敲式和非接触式等多种工作模式（610），结合功能化探针（电学、磁学探针等），持续推动纳米尺度多维度表征技术的发展。

MS900可以提供强大的多功能的微观测量能力，不仅可以研究样品表面的形态、纳米结构以及链构象，还能获取纳米颗粒尺寸、孔径、表面粗糙度及缺陷等关键信息。

光学特性

表面形貌及轮廓：自动测量样品的二维、三维表面形貌、表面粗糙度、关键尺寸（包括高度、孔洞深度、长度等）、关键部位的面积和体积等表面参数。所有的测量都无损、快速，并且不需要样品制备。强大的分析软件可以极其精准的描绘和定量分析表面粗糙度、台阶高度、关键尺寸和其它形貌特征。对于各种表面结构，放大倍率及零件高度，可以实现小于0.01纳米到20000微米范围的快速测量，并可从已经扫描的区域中重新精确扫描任意特定区域精准定位。

        接触探针

电学：结合导电模式测量材料表面电荷、电流、IV特性、电阻率、表面电势分布等；

力学：通过测量探针与样品间的相互作用力，可以分析材

料的弹性模量、粘附力、摩擦力等力学特性；

技术参数

扫描装置：闭环反馈电容控制精密压电陶瓷，带防撞保护，触碰样品自动回升；

CCD扫描阵列分辨率：1600×1200，10000×1000， 1000x600，1000x200；

样件观察：软件集成观察窗，电动切换视场范围；

CCD扫描速度：171μm/sec;

纵向驱动模块：精密压电陶瓷扫描器；

纵向扫描范围：0-20mm （非拼接一次扫描完成）；

扫描分辨率：0.008nm；

精密性能

超光滑表面形貌重复性：0.08nm（Sa）；

超光滑表面形貌重复性（同扫描分辨率）：0.008nm（RMS）；

光学横向分辨率：0.34μm（100x物镜）；

空间采样分辨率：0.04μm（100x物镜2xzoom）；

台阶高度重复性：0.1%@1sgm；

台阶线性度：≤30nm；

扫描台阶垂直精度：0.3%；

镜头附件

光学物镜：1×, 2×, 2.75×, 5.5×, 10×, 20×, 50×, 100×可选，工作距离标准/长焦/超长焦可选；

光学目镜：电控zoom切换1.0×, 0.5×, 0.75× , 1.5×, 2.0×可选；

接触探针套件

纳米电学探针夹持器

纳米尺度力学探针